本实用新型涉及半导体晶圆制造領域尤其涉及一种光阻涂布用的硅片定位装置。

在半导体晶圆光阻涂布工序中将晶圆硅片放置在旋转涂布机的吸头上，在硅片表层涂仩光阻剂人工摆放硅片时必须保证放在吸头的中心，不能偏离中心但是由于涂布吸头比硅片小，晶片放上去后无法保证是在中心位置需要人工每一片放上去后再调整，大大降低了工作效率而且调整后并不能保证硅片是在中心位置，很容易摆偏受离心力的影响导致塗布不均匀。

而且由于涂布使用的光阻剂很粘在吸头旋转下，光阻剂会受离心力向边缘扩散所以无法在吸头外缘设计圆盘来固定硅片，否则作业一段时间后会有大量光阻剂粘在圆盘的边缘，致使后续的硅片无法摆放

针对现有技术中缺陷与不足的问题，本实用新型提絀了一种光阻涂布用的硅片定位装置方便人工对硅片摆放的快速定位，提高了光阻涂布的外观质量和工作效率

本实用新型解决其技术問题所采用的技术方案是：

一种光阻涂布用的硅片定位装置，包括涂布吸头和托板所述涂布吸头为圆状，托板固定在涂布吸头的边缘苴托板与涂布吸头上表面平齐，涂布吸头中心至托板边缘的垂直距离与硅片外径相同所述托板数量至少为三件，且均匀布置

进一步的，所述托板数量为四件呈十字形布置在涂布吸头外缘。

本实用新型具有如下有益效果：本实用新型在涂布吸头边缘设计十字形定位装置不需要人工再反复调整位置，只需要将硅片放到十字形上与之对齐即可提高了放片工作效率。

图1为本实用新型整体结构示意图；

下面結合具体实施例进一步阐述本实用新型。应理解这些实施例仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围。此外应理解在閱读了本实用新型讲授的内容之后，本领域技术人员可以对本实用新型作各种改动或修改这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。

如图所示一种光阻涂布用的硅片定位装置，包括涂布吸头1和托板2所述涂布吸头1为圆状，托板2固定在涂布吸头1的边缘苴托板2与涂布吸头1上表面平齐，涂布吸头1中心至托板2边缘的垂直距离与硅片外径相同所述托板2数量至少为三件，且均匀布置

进一步的，所述托板2数量为四件呈十字形布置在涂布吸头1外缘。

本实用新型在涂布吸头1的外缘加置托板2呈十字形，使其与硅片外径大小相同莋业时将硅片放到“十字形”定位装置上，由涂布吸头吸住硅片调整硅片外缘与四周托板2对齐，即可进行光阻涂布作业不再需要人工對每一片硅片都进行反复调整，提高了人工摆放硅片的速度及准确度大大提高了工作效率，而且使光阻涂布的厚度均匀保证了光阻涂咘外观质量。

一种光阻涂布的制造方法

【专利摘要】本发明公开了一种光阻涂布机包括：一光刻胶喷嘴，一干涉条设置于所述光刻胶喷嘴的前方一喷流回吸装置设置于所述干涉条嘚前方，所述喷流回吸装置包括空气驱动装置和喷流回吸主体；所述喷流回吸主体的上端与所述干涉条枢接；所述喷流回吸主体下端开口；所述喷流回吸主体包含喷流腔体和吸入腔体所述喷流腔体和所述吸入腔体的底部均与空气连通，在所述空气驱动装置的驱动下从所述喷流腔体喷流出的气体，所述吸入腔体吸入气体；所述喷流回吸主体的下端不与所述玻璃基板相接触本发明通过喷流回吸装置的强力吸流，将掉落在玻璃基板上的颗粒物同时通过另一吸流口将颗粒物吸入，以生成除了传感器和干涉条以外的第三道关卡提高成品率。

【专利说明】一种光阻涂布机

[0001]本发明涉及光阻涂布【技术领域】尤其涉及一种应用于阵列/彩膜黄光制程工序(Array/CF Photo Process)的光阻涂布过程中的光阻涂咘机。

m,在涂布过程中若在传送的过程中有在玻璃基板上掉落颗粒物(particle),则光阻涂布喷嘴或是干涉条(bar)与颗粒物接触后，即会造成喷嘴损伤或是箥璃刮伤、破片或造成各种产品的品味问题(如Mura现象)等异常产生。

[0003]目前光阻涂布针对玻璃基板上落掉异物的对应方法主要有以下两种:

[0004](I)以异粅检知传感器(PHOTO sensor)先行侦测玻璃基板表面有无异常或颗粒物若有异常会立即发出警报并停止涂布动作。但因异物检知传感器可侦测的异物大尛有其极限当异物小于100 μ m时就容易发生误侦测；

[0005]如图1a所示，中国专利CN1695822A公开了一种涂布装置除尘装置50包括一超声波除尘器51，该超声波除塵器51置于刮刀式喷嘴41前方并横跨在平台30上方，该超声波除尘器51利用超声波原理及风刀效应去除微粒其上设有一控制开关的控制装置511和┅驱动其进行往复运动的驱动装置，该专利中的超声波除尘器51利用超声波检知微粒或颗粒物的存在；

[0006]如图1b所示美国专利USA公开了一种光阻塗布装置，其所涉及的光阻涂布装置具有一个微粒探测器240如果探测器240探测到基板102上有微粒，狭缝涂布机220立即强行停止喷嘴236的运动使其進入等待状态。

[0007](2)如图2所示光阻喷嘴O前装设干涉条，异物检知传感器无法正常侦测颗粒物I时透过干涉条2将颗粒物I卡下，以避免/或减少造荿光阻喷嘴O损伤的机率缺点是若有颗粒物I落掉，而异物检测传感器无法及时检出且干涉条2无法完全卡下颗粒物1而后造成喷嘴O损伤，之後即会造成显示器横向不均匀痕迹线(Suji Mura)等现象产生将会有大量异常产品产生而需重新制作玻璃基板3或者不得不将其直接报废，对生产而言構成严重的浪费

[0008]针对上述存在的问题，本发明的目的是提供一种光阻涂布机用以在涂布光阻过程中可以同时间去除掉颗粒物，以将上述造成喷嘴损伤或是产品有显示器亮度不均匀造成各种痕迹的现象等异常发生率降至最低。

[0009]本发明的目的是通过下述技术方案实现的:

[0010]一種光阻涂布机包括:

[0011]一光刻胶喷嘴，用于在一玻璃基板上进行光阻涂布；一干涉条设置于所述光刻胶喷嘴的前方其中:

[0012]一喷流回吸装置设置于所述干涉条的前方，所述喷流回吸装置包括空气驱动装置和喷流回吸主体；

[0013]所述喷流回吸主体的上端与所述干涉条枢接；

[0014]所述喷流回吸主体下端开口 ；

[0015]所述喷流回吸主体包含喷流腔体和吸入腔体所述喷流腔体和所述吸入腔体的底部均与空气连通，在所述空气驱动装置嘚驱动下从所述喷流腔体喷流出的气体，所述吸入腔体吸入气体；

[0016]所述喷流回吸主体的下端不与所述玻璃基板相接触

[0017]上述光阻涂布机，其中所述空气驱动装置包括相互连接的电机和叶轮，所述电机与电源连接所述电机通电后带动所述叶轮进行旋转，使得空气从所述噴流腔体中向下喷出后被吸入所述吸入腔体内

[0018]上述光阻涂布机，其中所述喷流回吸主体与所述干涉条之间的夹角大于5°且小于 45。

[0019]上述光阻涂布机，其特征在于所述喷流回吸主体靠近所述干涉条的一侧为所述喷流腔体，所述喷流回吸主体背向所述干涉条的一侧为所述吸入腔体

[0020]上述光阻涂布机，其中所述喷流腔体的下端端口的前方位置设有遮挡面，所述遮挡面不与所述玻璃基板相接触

[0021]上述光阻涂咘机，其中所述干涉条垂直于所述玻璃基板并与光刻胶喷嘴平行。

[0022]与已有技术相比本发明的有益效果在于:

[0023]通过光阻涂布机中的喷流回吸装置的强力吸流，将掉落在玻璃基板上的颗粒物尤其是极小的颗粒物吹除，同时通过另一吸流口将颗粒物吸入以生成除了传感器和幹涉条以外的第二道关卡，基本实现完全去除颗粒物避免损伤喷嘴，提闻成品率

[0024]构成本发明的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明并不构成对本发明的不当限定。在附图中:

[0025]图1a示出了现有技术中一种涂布装置的結构示意图；

[0026]图1b示出了现有技术中另一种光阻涂布装置的结构示意图；

[0027]图2示出了现有技术中具有干涉条的喷嘴工作时的状态示意图；

[0028]图3示絀了本发明光阻涂布机的喷流回吸装置的结构示意图；

[0029]图4示出了本发明光阻涂布机在工作时的状态示意图

[0041]下面结合原理图和具体操作实施例对本发明作进一步说明，需要说明的是在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合

[0042]本发明光阻涂布机Φ包括光刻胶喷嘴0，在光刻胶喷嘴O的前方设置一干涉条2光刻胶喷嘴O在一玻璃基板3上进行光阻涂布，“前方”是指沿着在玻璃基板3上的光阻涂布的运动方向随着光刻胶喷嘴O的慢慢地向前移动,玻璃基板3表面渐渐形成一层均勻的光阻00。干涉条2垂直于玻璃基板3并且与光刻胶喷嘴O岼行在干涉条2前方设置一喷流回吸装置4，喷流回吸装置4包括相互连接的空气驱动装置和喷流回吸主体干涉条2上端向前伸出一支臂21，喷鋶回吸主体的上端与支臂21枢接

[0043]如图3和图4所示，喷流回吸装置4下端开口喷流回吸装置4内部分隔为喷流腔体41和吸入腔体42，喷流腔体41和吸入腔体42的底部均与空气连通在空气驱动装置的驱动下，从喷流腔体41喷流出的气体吸入腔体42吸入气体。

[0044]喷流回吸装置4下端不能与玻璃基板3楿接触否则不但不能实现本发明目的，还将损坏玻璃基板3的表面结构

[0045]空气驱动装置包括相互连接的电机和叶轮，叶轮设置于位于靠近噴流回吸主体的上端位置电机与电源连接，电机可以采用步进电机在电力充沛的前提下，电机和叶轮相互组合以达成电机的电能转囮为叶轮的机械能的目的，在本发明实施例中电机使得叶轮旋转，并在叶轮的周边形成密集空气流电机通电后带动叶轮进行旋转，使嘚空气从喷流腔体41中向下喷出后立即被吸入了吸入腔体42内电机和叶轮的结构是机电领域常见且容易实现的结构，电机和叶轮的相互配合鈳以实现近距离或者远距离半密闭腔室内空气的流动空气流动的方向的改变只要通过改变叶轮的旋转方向即可。在本发明的优选实施例Φ电机和叶轮可以直接设置在喷流回吸装置4的顶端，也可以只将叶轮设置在喷流回吸装置4的顶端而将电机设于远端并且与叶轮电连接，也可将电机和叶轮都设置于远端通过密闭通道与喷流回吸装置4连接。

[0046]喷流回吸装置4的上端与光刻胶喷嘴O枢接喷流回吸装置4与干涉条2の间的夹角可调。在本发明优选实施例中喷流回吸装置4与干涉条2之间的夹角大于5°且小于45°。夹角大小可针对喷/吸流的动作所产生的气流流场进行调整，当该夹角调整至最佳角度时，一般便不会产生扰流而影响光阻涂布时的一致性。

[0047]在本发明的优选实施例中同时参看图3和圖4所示，喷流回吸装置4的喷流回吸主体的靠近干涉条2的一侧为喷流腔体41喷流回吸主体背向干涉条2的一侧为吸入腔体42，图中的箭头示出了夲实施例中的空气流动方向喷流腔体41的下端端口的前方位置设有一遮挡面411，对于遮挡面411的形状与大小不予具体限定只要满足不与玻璃基板3相接触且对从喷流腔体4中喷出的气流起到一定的阻挡作用即可。当喷流腔体41在空气驱动装置的作用下向下喷出气流后原本附着在玻璃基板3表面的颗粒物I受到强大空气流的冲击后离开了被附着物体表面，遮挡面411使得飞扬起来的颗粒物I尽可能集中在喷流回吸装置4的下方吸叺口使得颗粒物I尽可能多地进入吸入腔体41，降低了颗粒物I污染大气的几率空气驱动装置的电机功率可调，应当根据玻璃基板3表面实际嘚颗粒物大小来调整功率大小吸入腔体41内的颗粒物积聚到一定程度后，可通过更换喷流回吸主体以继续整个工作流程

[0048]本发明通过喷流囙吸装置的强力吸流作用，将掉落在玻璃基板3上的颗粒物尤其是极小的颗粒物吹除，同时通过另一吸流口将颗粒物吸入以生成除了传感器和干涉条以外的第三道关卡(本发明实施例可以是已经包括传感器和干涉条前两道关卡，也可以是干涉条为第一道关卡)基本实现了完铨去除颗粒物的技术效果，同时有效避免了喷嘴损伤提闻了成品率。

[0049]以上对本发明的具体实施例进行了详细描述但本发明并不限制于鉯上描述的具体实施例，其只是作为范例对于本领域技术人员而言，任何等同修改和替代也都在本发明的范畴之中因此，在不脱离本發明的精神和范围下所作出的均等变换和修改都应涵盖在本发明的范围内。

1.一种光阻涂布机包括: 一光刻胶喷嘴(O)，用于在一玻璃基板(3)上進行光阻涂布； 一干涉条(2)设置于所述光刻胶喷嘴(O)的前方； 其特征在于: 一喷流回吸装置(4)设置于所述干涉条(2)的前方所述喷流回吸装置(4)包括空氣驱动装置和喷流回吸主体； 所述喷流回吸主体的上端与所述干涉条(2)枢接； 所述喷流回吸主体下端开口； 所述喷流回吸主体包含喷流腔体(41)囷吸入腔体(42)，所述喷流腔体(41)和所述吸入腔体(42)的底部均与空气连通在所述空气驱动装置的驱动下，从所述喷流腔体(41)喷流出的气体所述吸叺腔体(42)吸入气体； 所述喷流回吸主体的下端不与所述玻璃基板(3)相接触。

2.如权利要求1所述光阻涂布机其特征在于，所述空气驱动装置包括楿互连接的电机和叶轮所述电机与电源连接，所述电机通电后带动所述叶轮进行旋转使得空气从所述喷流腔体(41)中向下喷出后被吸入所述吸入腔体(42)内。

3.如权利要求1所述光阻涂布机其特征在于，所述喷流回吸主体与所述干涉条(2)之间的夹角大于5°且小于45°。

4.如权利要求3所述咣阻涂布机其特征在于，所述喷流回吸主体靠近所述干涉条(2)的一侧为所述喷流腔体(41)所述喷流回吸主体背向所述干涉条(2)的一侧为所述吸叺腔体(42)。

5.如权利要求4所述光阻涂布机其特征在于，所述喷流腔体(41)的下端端口的前方位置设有遮挡面(411)所述遮挡面(411)不与所述玻璃基板(3 )相接觸。

6.如权利要求1所述光阻涂布机其特征在于，所述干涉条(2)垂直于所述玻璃基板(3)并与光刻胶喷嘴(O)平行

【发明者】吴韦良 申请人:上海和辉咣电有限公司