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防止厚血膜在染色中脱落的新法--《实用寄生虫病杂志》1994年01期
防止厚血膜在染色中脱落的新法
【摘要】:防止厚血膜在染色中脱落的新法山东省寄生虫病防治研究所济宁272133贾洪忠作者在长期制作疟原虫教学标本片中摸索了防止厚血膜在染色过程中脱落的方法:按常规方法涂制厚血膜,待其自然干固后,放在32℃以上的日光下晒2小时,再放入中性水中脱去厚血膜的血色素,...
【作者单位】:
【关键词】:
【分类号】:R446.8【正文快照】:
防止厚血膜在染色中脱落的新法山东省寄生虫病防治研究所济宁272133贾洪忠作者在长期制作疟原虫教学标本片中摸索了防止厚血膜在染色过程中脱落的方法:按常规方法涂制厚血膜,待其自然干固后,放在32℃以上的日光下晒2小时,再放入中性水中脱去厚血膜的血色素,然
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李立,贺霞风,李朝品;[J];蚌埠医学院学报;1981年02期
李立,贺霞凤,韩志伟,李朝品;[J];蚌埠医学院学报;1981年04期
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贺霞凤,李立,刘家荣,胡守峰,沈际佳;[J];蚌埠医学院学报;1983年04期
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庸学恒,孙溱安,陆惠民;[J];中国寄生虫学与寄生虫病杂志;1984年04期
陆惠民,孙溱安,唐学恒,车惠兰,谢可鸣,保泽洛;[J];中国寄生虫学与寄生虫病杂志;1985年01期
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农行(上海) 李炜;[N];东方早报;2005年
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王龙云 ;[N];经济参考报;2005年
FN记者 袁蓉君;[N];金融时报;2005年
永志;[N];金融时报;2005年
郭峥嵘;[N];汕头日报;2005年
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郑良;[D];四川大学;2003年
彭可;[D];中南大学;2003年
郭海波;[D];北京印刷学院;2005年
徐春菊;[D];大连理工大学;2006年
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京公网安备75号口服乙胺碘呋酮致角膜色素沉着10例临床观察--《临沂医专学报》1987年Z2期
口服乙胺碘呋酮致角膜色素沉着10例临床观察
【摘要】:正 乙胺碘呋酮(Amiodarone)是临床上广泛应用的广谱抗心律失常药物。由于此药部分通过泪腺排出体外,故服药时间稍长可出现角膜色素沉着。今将所遇
【作者单位】:
【关键词】:
【正文快照】:
乙胶碘吠酮(A血ioda1’0ne)是临床卜广泛应用的广谱抗心律失常药物。由于此药部分通过泪腺排出体处①,间稍裕可出现角膜色素沉看。故服酌盯今将所遇10例临床观察报告如下: 一、性别与年龄:男8例,女2例。2例在40岁以下,8例在48一76岁。 二、服药情况:服用乙胺碘吠酮均在2个月
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蒋炜宁 实习生
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聂敏宁 通讯员
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张艳玲;[D];浙江大学;2004年
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邱培瑾;[D];浙江大学;2002年
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沈剑琴;[D];浙江大学;2010年
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史建江;[D];吉林大学;2004年
文辉才;[D];江西医学院;2004年
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京公网安备75号铝阳极氧化膜多色彩电解着色工艺--《电镀与涂饰》2006年06期
铝阳极氧化膜多色彩电解着色工艺
【摘要】:简述了多色彩电解着色工艺的发展和特点,介绍了2种达到多色化显色的方法:阳极氧化膜底部扩孔处理和调整阳极氧化膜阻挡层。给出了扩孔处理过程中阳极氧化膜横断面的显微结构变化示意图,并给出了“阻挡层调整”实现多色化的工艺参数。描述了多色化阳极氧化膜的性能,并对比了电泳涂漆前后多色彩电解着色样品的颜色。
【作者单位】:
【关键词】:
【分类号】:TG177【正文快照】:
1前盲电解着色的阳极氧化膜以其低成本和高性能,已经成为建筑铝型材行业的主要着色方法,遗憾的是色彩比较单调,局限于香槟色一古铜色一黑色。工业界和技术界追求多种颜色的努力由来已久,有机染色、复合着色(染色与电解着色叠加)等工艺可以达到表面多色彩的目的,但是前者
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侯朝辉;[D];湖南大学;2001年
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京公网安备75号两种角膜内皮细胞活性染色的应用比较--《中国实用眼科杂志》1995年11期
两种角膜内皮细胞活性染色的应用比较
【摘要】:两种角膜内皮细胞活性染色的应用比较中山医科大学,中山眼科中心郑湖铃,陈家祺,刘华供眼角膜内皮细胞的活性是穿透角膜移植成功的关键性的因素之一。评价供体内皮细胞的活性,除常规裂隙灯检查,以及细胞化学酶(NBT)染色、扫描电镜、角膜内皮显微镜检查等外[1]...
【作者单位】:
【关键词】:
【分类号】:R770.4【正文快照】:
两种角膜内皮细胞活性染色的应用比较中山医科大学,中山眼科中心郑湖铃,陈家祺,刘华供眼角膜内皮细胞的活性是穿透角膜移植成功的关键性的因素之一。评价供体内皮细胞的活性,除常规裂隙灯检查,以及细胞化学酶(NBT)染色、扫描电镜、角膜内皮显微镜检查等外[1],
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京公网安备75号富硅二氧化硅薄膜的蓝色荧光特性研究--《上海海运学院学报》2003年01期
富硅二氧化硅薄膜的蓝色荧光特性研究
【摘要】:用射频磁控溅射法制备了富硅二氧化硅薄膜。红外 (IR)透射光谱表明退火过程中发生2SiOx→xSiO2 +(2 -x)Si化学反应。SiO2 与纳米晶硅 (nc -Si)界面上与氧有关的缺陷 (NBOHC)是蓝光发射 (2 .8eV)的主要原因。用纯二氧化硅靶制备的样品有 1.8eV的发光 ,可能与硅缺陷有关。
【作者单位】:
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【分类号】:O472.3【正文快照】:
0 引 言由于硅基发光材料在光电集成方面的重要性和SiO2 膜作为钝化层和电绝缘层被广泛应用于硅器件和集成电路方面 ,近年来对含nc -Si的氧化硅薄膜的光致发光现象已有了许多研究。采用各种方法制备的样品 ,观察到从红光到紫光的可见光发射现象[1~ 4 ] 。有人认为
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